干法刻蝕機(jī) 半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備，刻蝕機(jī)工廠
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產(chǎn)品型號(hào)：IBE350
產(chǎn)品代碼：
產(chǎn)品價(jià)格：350000
計(jì)量單位：臺(tái)
折 扣 率： 0
最后更新：2025-09-22
關(guān) 注 度：830
生產(chǎn)企業(yè)：四川超邁智能裝備有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹IBE350干法刻蝕設(shè)備
刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的精密刻蝕。對(duì)復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。
設(shè)備尺寸：1200*1500*1800mm。
極限真空：優(yōu)于≤8.0×10-5Pa。
樣品尺寸：6英寸向下兼容。
刻蝕類型：物理刻蝕。
刻蝕氣體：Ar、O2。
刻蝕氣體流量：0~100sccm。
離子源類型：考夫曼直流離子源，角度可調(diào)。 |
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2025-09-22
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